[发明专利]一种倍频光场调制方法及调制装置在审
| 申请号： | 201910681704.2 | 申请日： | 2019-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN110361906A | 公开（公告）日： | 2019-10-22 |
| 发明（设计）人： | 王凯;陆培祥;洪玄淼;赵文超;龙华;刘为为;王兵 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G02F1/355;G02F1/37 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 曹葆青;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种倍频光场调制方法及调制装置，方法包括：根据实际所需倍频光场，确定由纳米孔阵列和二维材料薄膜层叠构成的复合超表面中纳米孔阵列的排布方式以及入射基频激光；制备复合超表面，并向纳米孔阵列的表面入射基频激光，基频激光经纳米孔阵列的调制，得到由不同相位延迟光组成的光场，二维材料薄膜在该光场的激发下发射出倍频光场，该倍频光场即为所述所需倍频光场，实现倍频光场的调制。本发明采用由纳米孔阵列和二维材料薄膜层叠构成的复合超表面，结构简单、制备方便；根据实际所需的倍频光场，确定纳米孔阵列的排布方式和纳米孔阵列的入射激光类型，在实现较高的倍频转换效率的同时，调控灵活且自由度高，以实现不同功能需要。 | ||
| 搜索关键词： | 倍频光 纳米孔阵列 二维材料 基频激光 薄膜 调制装置 排布方式 场调制 复合 光场 入射 制备 调制 倍频转换效率 入射激光 相位延迟 发射 灵活 调控 激发 | ||
【主权项】：
1.一种倍频光场调制方法，其特征在于，包括：步骤1、根据实际所需倍频光场，确定由纳米孔阵列和二维材料薄膜层叠构成的复合超表面中所述纳米孔阵列的排布方式以及入射基频激光；步骤2、制备复合超表面，并向所述纳米孔阵列的表面入射所述基频激光，所述基频激光经所述纳米孔阵列的调制，得到由不同相位延迟光组成的光场，所述二维材料薄膜在该光场的激发下发射出倍频光场，该倍频光场即为所述所需倍频光场，实现倍频光场的调制。
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