[发明专利]化学机械研磨及/或平坦化工艺所用的研磨液组成在审
| 申请号： | 201910682996.1 | 申请日： | 2019-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN110776873A | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | 李安璿;李胜男;吴振豪;廖峻宏;蔡腾群;赵皇麟 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/768 |
| 代理公司： | 72003 隆天知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张福根;付文川 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 化学机械研磨及/或平坦化工艺所用的研磨液组成，包括氧化剂，包括一或多个氧原子；以及研磨粒子，具有壳层结构围绕核心结构。核心结构包括第一化合物，壳层结构包括第二化合物，且第一化合物与第二化合物不同，其中核心结构的直径大于壳层结构的厚度，且其中第一化合物设置为与氧化剂反应形成反应性氧物种。 | ||
| 搜索关键词： | 第一化合物 核心结构 壳层结构 第二化合物 反应性氧物种 化学机械研磨 氧化剂 氧化剂反应 研磨粒子 平坦化 研磨液 氧原子 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨及/或平坦化工艺所用的研磨液组成，包括：/n一氧化剂，包括一或多个氧原子；以及/n一研磨粒子，具有一壳层结构围绕一核心结构，该核心结构包括一第一化合物，该壳层结构包括一第二化合物，且该第一化合物与该第二化合物不同，其中该核心结构的直径大于该壳层结构的厚度，且其中该第一化合物设置为与该氧化剂反应形成一反应性氧物种。/n
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