[发明专利]一种非对称边墙、垂直堆叠沟道结构的可重构场效应晶体管在审
申请号: | 201910683374.0 | 申请日: | 2019-07-26 |
公开(公告)号: | CN110416315A | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 李相龙;田明;王昌锋;孙亚宾;孙子涵;李小进;石艳玲;廖端泉;曹永峰 | 申请(专利权)人: | 华东师范大学;上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786 |
代理公司: | 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 | 代理人: | 徐筱梅;张翔 |
地址: | 200241 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种非对称边墙、垂直堆叠沟道结构的可重构场效应晶体管,该晶体管包括:数条垂直堆叠的沟道,分别包裹在沟道外侧的栅极氧化物,设于沟道两端的源极和漏极,设置在源极右侧的源极一侧边墙,设置在漏极左侧的源极一侧边墙,设置在源极一侧边墙右侧的控制栅极,设置在漏极一侧边墙左侧的极性栅极,设置在控制栅极和极性栅极之间的栅极隔离,设置在底部的衬底。本发明其特征在于源极一侧边墙与漏极一侧边墙所采用的材料不同,源极一侧边墙的长度小于或等于漏极一侧边墙的长度;沟道沿垂直衬底的方向堆叠,堆叠的次数至少两次。本发明可在同等面积上获得更大的电流密度,从而达到降低组合逻辑延迟、提高电流驱动能力的效果。 | ||
搜索关键词: | 边墙 源极 漏极 沟道 垂直堆叠 场效应晶体管 非对称边 沟道结构 控制栅极 可重构 衬底 堆叠 电流驱动能力 栅极氧化物 栅极隔离 组合逻辑 晶体管 延迟 垂直 | ||
【主权项】:
1.一种非对称边墙、垂直堆叠沟道结构的可重构场效应晶体管,其特征在于,它包括:数条垂直堆叠的沟道(1),分别包裹在数条沟道(1)外侧的栅极氧化物(2),设于数条沟道(1)左端的源极(3),设于数条沟道(1)右端的漏极(4),设置在源极(3)右侧、沟道(1)外侧、栅极氧化物(2)左侧的源极一侧边墙(7),设置在漏极(4)左侧、沟道(1)外侧、栅极氧化物(2)右侧的源极一侧边墙(8),设置在栅极氧化物(2)外侧、源极一侧边墙(7)右侧的控制栅极(5),设置在栅极氧化物(2)外侧、漏极一侧边墙8左侧的极性栅极(6),设置在栅极氧化物(2)外侧、控制栅极(5)和极性栅极(6)之间的栅极隔离(9),设置在源极(3)、漏极(4)、控制栅极(5)、极性栅极(6)、源极一侧边墙(7)、漏极一侧边墙(8)和栅极隔离(9)底部的衬底(10)。
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