[发明专利]应用于PCB上化学金钯金镀层的化学钯溶液有效
申请号: | 201910685004.0 | 申请日: | 2019-07-26 |
公开(公告)号: | CN110318047B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 卢意鹏;许国军;吴运会;许香林;刘高飞 | 申请(专利权)人: | 深圳市溢诚电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/44 | 分类号: | C23C18/44;H05K3/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518100 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种应用于PCB上化学金钯金镀层的化学钯溶液,包括主盐、配位剂、还原剂、稳定剂、pH缓冲剂和表面活性剂,以质量浓度为单位,上述组分的比例为:主盐中的钯浓度:0.4‑0.6g/L;配位剂:0.1‑30g/L;还原剂:0.1‑25g/L;稳定剂:1‑150mg/L;pH缓冲剂:1‑25g/L;表面活性剂:0.1‑10mg/L;其余的组分为纯水。该钯溶液制得的钯层可以满足良好的焊接和邦定要求,同时也适用于线宽/线距在0.5mil/0.5mil以下甚至更小的线路表面处理上。 | ||
搜索关键词: | 应用于 pcb 化学 金钯金 镀层 溶液 | ||
【主权项】:
1.一种应用于PCB上化学金钯金镀层的化学钯溶液,其特征在于,包括主盐、配位剂、还原剂、稳定剂、pH缓冲剂和表面活性剂,以质量浓度为单位,上述组分的比例为:主盐中的钯浓度:0.4‑0.6g/L配位剂:0.1‑30g/L还原剂:0.1‑25g/L稳定剂:1‑150mg/LpH缓冲剂:1‑25g/L表面活性剂:0.1‑10mg/L其余的组分为纯水;根据金槽体积,并搭载搅拌泵;在金槽中先加50%的纯水,在不断搅拌的过程中依次加入配位剂、还原剂、稳定剂和表面活性剂,调整槽液pH在7.0‑7.8的范围内,然后加入pH缓冲剂,最后加入主盐并定容形成钯溶液。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市溢诚电子科技有限公司,未经深圳市溢诚电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910685004.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理