[发明专利]一种微纳结构成像方法及装置有效

专利信息
申请号: 201910688799.0 申请日: 2019-07-29
公开(公告)号: CN110361364B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 魏茹雪;路鑫超;刘虹遥;江丽雯;孙旭晴;王畅 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01N21/63 分类号: G01N21/63
代理公司: 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 代理人: 庞许倩;李明里
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种微纳结构成像方法及装置,属于微纳结构成像技术领域,解决了现有微纳结构成像过程中由于表面等离激元的传输长度导致的图像分辨率降低的问题。一种微纳结构成像方法,包括:将待成像微纳结构样品放置在表面等离激元激发平面上;分别从两个或多个不同的方向入射光源并在所述微纳结构样品位置激发表面等离激元,获得对应的两个或多个微纳结构样品的成像图像;基于所述两个或多个微纳结构样品的成像图像进行图像重建,得到微纳结构样品的成像结果。该方法极大提高的图像分辨率与成像质量。
搜索关键词: 一种 结构 成像 方法 装置
【主权项】:
1.一种微纳结构成像方法,其特征在于,包括:将待成像微纳结构样品放置在表面等离激元激发平面上;分别从两个或多个不同的方向入射光源并在所述微纳结构样品位置激发表面等离激元,获得对应的两个或多个微纳结构样品的成像图像;基于所述两个或多个微纳结构样品的成像图像进行图像重建,得到微纳结构样品的成像结果。
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