[发明专利]一种亚分辨率辅助图形的修正方法及电子设备

摘要

本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及一种亚分辨率辅助图形的修正方法及电子设备。所述方法包括步骤：提供包括主图形和亚分辨率辅助图形的掩模版图；在主图形的周围形成一评价点放置区域并在评价点放置区域中按预设规则放置多个评价点；将亚分辨率辅助图形的每条边与其最近邻的评价点关联形成与每条边对应的至少一个关联评价点；通过计算每个关联评价点的强度，并判断每个关联评价点的强度是否超过设定的阈值，基于判定结果决定是否需要对亚分辨率辅助图形进行修正，能很好的提高修正的准确性，不需要通过反演光刻技术等较复杂的手段判定是否需要修正，能很好的减少运算量以及提高修正速度，使得对亚分辨率辅助图形的修正更简单快速。

主权项

1.一种亚分辨率辅助图形的修正方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、提供包括主图形和亚分辨率辅助图形的掩模版图；S2、在所述主图形的周围形成一评价点放置区域并在所述评价点放置区域中按预设规则放置多个评价点；S3、将所述亚分辨率辅助图形的每条边与其最近邻的评价点关联形成与每条边对应的至少一个关联评价点；及S4、通过光刻成像模型逐一计算每个关联评价点的强度，并判断每个关联评价点的强度是否超过设定的阈值，基于判定结果决定是否需要对亚分辨率辅助图形进行修正。