[发明专利]显示面板母板及其制备方法有效
| 申请号： | 201910689578.5 | 申请日： | 2019-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN110364426B | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 王欢;张金方;张露;韩珍珍;胡思明 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 娜拉 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种显示面板母板及其制备方法。显示面板母板具有显示面板形成区域和位于显示面板形成区域周侧的测试区域，显示面板母板的制备方法包括：提供阵列母基板，阵列母基板包括层叠设置的衬底和器件层，其中，器件层位于显示面板形成区域；在阵列母基板上远离衬底的一侧形成绝缘层；选择绝缘层的对应显示面板形成区域及测试区域中的一者进行第一次图案化处理，对另一者进行第二次图案化处理，以形成具有第一过孔的第一图案化区域和具有第二过孔的第二图案化区域的绝缘层。本发明公开的可以保证两个区域的图案化处理过程互不影响，避免了显影不均的现象，保证显示面板形成区域的显影效果，进而可以提高显示面板的显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 面板 母板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显示面板母板的制备方法，所述显示面板母板具有显示面板形成区域和位于所述显示面板形成区域周侧的测试区域，其特征在于，所述制备方法包括：提供阵列母基板，所述阵列母基板包括层叠设置的衬底和器件层，其中，所述器件层位于所述显示面板形成区域；在所述阵列母基板上远离衬底的一侧形成绝缘层；选择所述绝缘层的对应所述显示面板形成区域及所述测试区域中的一者进行第一次图案化处理，对另一者进行第二次图案化处理，以形成具有第一过孔的第一图案化区域和具有第二过孔的第二图案化区域的绝缘层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司，未经昆山国显光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910689578.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：PZT图形化方法
- 下一篇：一种锗-硅基砷化镓材料及其制备方法和应用
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
