[发明专利]包含电源结构的集成电路在审

专利信息
申请号: 201910690002.0 申请日: 2019-07-29
公开(公告)号: CN110783307A 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 彭士玮;曾健庭;林威呈 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/50 分类号: H01L23/50;H01L27/02
代理公司: 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种包含电源结构的集成电路包含位于覆盖基板的第一金属层之下的两个埋入电力轨、以及在覆盖第一金属层的第二金属层中的两个上部电力轨。两个上部电力轨垂直于两个埋入电力轨。集成电路包含具有功能电路的电力拾取单元。功能电路包含在第一金属层之下的导电区段以及第一金属层中的电力垫。电力垫经由第一通孔导电连接到一个上部电力轨。第一电力垫经由第二通孔导电连接到第一导电区段。第一导电区段经由第三通孔导电连接到一个埋入电力轨。
搜索关键词: 电力轨 第一金属层 导电连接 导电区段 电力垫 埋入 通孔 功能电路 集成电路 第二金属层 电源结构 覆盖基板 拾取单元 垂直 覆盖
【主权项】:
1.一种包含电源结构的集成电路,其特征在于,包含:/n一基板;/n一第一金属层,覆盖该基板;/n一第一埋入电力轨及一第二埋入电力轨,均在一第一方向上延伸并且位于该第一金属层之下;/n一第二金属层,覆盖该第一金属层;/n一第一上部电力轨及一第二上部电力轨,各者在该第二金属层中并且在垂直于该第一方向的一方向上延伸;/n一电力拾取单元,具有一功能电路,该功能电路包含位于该第一金属层之下的一第一导电区段、以及在该第一金属层中的一第一电力垫;/n其中该第一电力垫经由在该第二金属层与该第一金属层之间的至少一第一通孔导电连接到该第一上部电力轨,并且该第一电力垫经由在该第一金属层与该第一导电区段之间的至少一第二通孔导电连接到该第一导电区段;以及/n其中该第一导电区段经由在该第一导电区段与该第一埋入电力轨之间的至少一第三通孔导电连接到该第一埋入电力轨。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910690002.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top