[发明专利]一种聚乙烯基底复合氧化石墨烯纳滤膜及其制备方法有效
申请号: | 201910692799.8 | 申请日: | 2019-07-30 |
公开(公告)号: | CN112295418B | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 程跃;王英杰;邱长泉;庄志 | 申请(专利权)人: | 上海恩捷新材料科技有限公司 |
主分类号: | B01D69/12 | 分类号: | B01D69/12;B01D69/02;B01D67/00;B01D71/02;B01D71/26 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 程晓 |
地址: | 201399 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种聚乙烯基底复合氧化石墨烯纳滤膜及其制备方法,聚乙烯基底被氧化剂化学侵蚀,出现活性位点,后涂覆含有金属离子的氧化石墨烯片层,在氢键作用下,片层与聚乙烯基底牢固键合在一起,利用氧化石墨烯片层间的通道形成的分子筛效应及片层上携带的负电荷按照道南效应实现功能性纳滤膜。本申请采用超薄聚烯烃类膜作为基底,具有对称的膜结构,较低的透过阻力使得聚乙烯基底在透过能力上具有较大优势;而聚乙烯本身具有较高的抗拉强度,耐溶剂和抗老化能力,具有更长的使用寿命;本申请纳滤膜制备工艺,方法新颖,功能性强,加入离子选择性强,可根据要求调节过滤级别,在未来产业化应用上具有广阔的前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 聚乙烯 基底 复合 氧化 石墨 滤膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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