[发明专利]一种磁性隧道结、制作方法、自旋二极管及存储器有效

专利信息
申请号: 201910693146.1 申请日: 2019-07-30
公开(公告)号: CN110459674B 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 赵巍胜;周航宇;周家琦;曹凯华;李智;张有光 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L43/02;H01L43/12;H01L27/22;G11C11/16
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王涛;任默闻
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提供一种磁性隧道结、制作方法、自旋二极管及存储器,针对基于传统单势垒磁性隧道结MRAM的隧穿极化电流透射率较低、RA较大的问题,本申请提出的基于多势垒层的磁性隧道结,在保证高TMR的情况下,增加隧穿极化电流透射率,降低RA,进而降低器件功耗,同时提高自旋转移矩翻转过程的可靠性。本发明提出的基于多势垒层的磁性隧道结具有低功耗、低写入错误率的特点。
搜索关键词: 一种 磁性 隧道 制作方法 自旋 二极管 存储器
【主权项】:
1.一种磁性隧道结,其特征在于,包括:/n第一磁性层,具有固定磁化方向;/n第二磁性层,具有可翻转的磁化方向;/n多层势垒层,位于所述第一磁性层和所述第二磁性层之间,并由非磁性绝缘材料形成;以及/n插入层,位于任意相邻的两层势垒层之间。/n
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