[发明专利]一种电感耦合等离子体处理系统

摘要

本申请公开了一种电感耦合等离子体处理系统，该系统通过开关切换射频功率在射频线圈和法拉第屏蔽装置之间的连接。当射频电源通过匹配网络与射频线圈相连时，射频功率耦合入射频线圈，进行等离子体处理工艺。当射频电源通过匹配网络与法拉第屏蔽装置相连时，射频功率耦合入法拉第屏蔽装置，进行对介电窗、等离子体处理腔体内壁的清洗工艺。同时由于法拉第系统与介电窗为一个零件，方便了射频线圈的安装和维护，实现对等离子体处理腔体内壁尤其是介电窗的高效清洗。

主权项

1.一种电感耦合等离子体处理系统，其特征在于：所述电感耦合等离子体处理系统包括等离子体反应腔（102）、激励射频电源（104）、匹配网络A（106）、射频线圈（108）、介电窗（110）、偏置射频电源（114）、匹配网络B（116）、电极（118）、衬底片（120）、气体源（130）、气体入口（140）、压力控制阀（142）、真空泵（144）和三通开关（150），所述激励射频电源（104）通过匹配网络A（106）调谐，调谐后再通过三通开关（150）供电到位于介电窗（110）上方的射频线圈（108），通过电感耦合在等离子体反应腔（102）中产生等离子体（112），偏置射频电源（114）通过匹配网络B（116）为电极（118）提供功率，衬底片（120）置于电极（118）之上；射频线圈（108）包括≥2个的子线圈，射频线圈（108）由一个射频电源；气体源（130）通过气体入口（140）与等离子体反应腔（102）连接，压力控制阀（142）和真空泵（144）将等离子体反应腔（102）维持在1mtorr‑100mtorr，并去除等离子体反应腔（102）的多余气体与反应副产物。