[发明专利]基于结构光和深度学习的单曝光超分辨率成像方法及装置有效

专利信息
申请号: 201910697301.7 申请日: 2019-07-30
公开(公告)号: CN110415201B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 边丽蘅;李道钰;张军;曹先彬 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G06T5/50 分类号: G06T5/50
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 王艳斌
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于结构光和深度学习的单曝光超分辨率成像方法及装置,其中,该方法包括:对多个不同传统照明编码进行叠加生成复合结构光照明编码;采集待处理目标场景在复合结构光照明编码单次曝光下生成的低分辨率图像;将低分辨率图像输入预设成像模型进行处理,输出待处理目标场景对应的超分辨率图像。该方法具有深度学习理论和结构光编码照明理论的支撑,实现方案简单,仅需单次曝光即可实现超分辨图像的快速重建。
搜索关键词: 基于 结构 光和 深度 学习 曝光 分辨率 成像 方法 装置
【主权项】:
1.一种基于结构光和深度学习的单曝光超分辨率成像方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,对多个不同传统照明编码进行叠加生成复合结构光照明编码;S2,采集待处理目标场景在所述复合结构光照明编码单次曝光下生成的低分辨率图像;S3,将所述低分辨率图像输入预设成像模型进行处理,输出所述待处理目标场景对应的超分辨率图像。
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