[发明专利]调光膜、背光模组、显示装置在审
申请号: | 201910712077.4 | 申请日: | 2019-08-02 |
公开(公告)号: | CN110297341A | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 朱贺玲;李鑫;桑建;张树柏;常康乐;禹璐 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1333;G02F1/1334;G02F1/13357 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种调光膜、背光模组、显示装置,属于显示技术领域,其可至少部分解决现有调光膜与防窥膜或与下偏光片之间吸附效应严重的问题。本发明的调光膜包括相对的第一基底和第二基底、设置在所述第一基底朝向所述第二基底一侧的第一电极层、设置在所述第二基底朝向所述第一基底一侧的第二电极层、设置在所述第一电极层和所述第二电极层之间的聚合物分散液晶层,所述调光膜还包括位于所述第一基底背向所述第二基底的一侧和/或所述第二基底背向所述第一基底的一侧的抗吸附表面层,所述抗吸附表面层用于抑制所述调光膜与固体表面之间的吸附。 | ||
搜索关键词: | 基底 调光膜 背光模组 第二电极 第一电极 吸附表面 显示装置 吸附 聚合物分散液晶层 固体表面 下偏光片 防窥 | ||
【主权项】:
1.一种调光膜,其特征在于,所述调光膜包括相对的第一基底和第二基底、设置在所述第一基底朝向所述第二基底一侧的第一电极层、设置在所述第二基底朝向所述第一基底一侧的第二电极层、设置在所述第一电极层和所述第二电极层之间的聚合物分散液晶层,所述调光膜还包括位于所述第一基底背向所述第二基底的一侧和/或所述第二基底背向所述第一基底的一侧的抗吸附表面层,所述抗吸附表面层用于抑制所述调光膜与固体表面之间的吸附。
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