[发明专利]一种磁控溅射镀膜系统及其控制方法在审
| 申请号： | 201910714168.1 | 申请日： | 2019-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN110592542A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 乔利杰;宋述兵;杨会生;庞晓露;王瑞俊;郑宝林 | 申请（专利权）人： | 山东司莱美克新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 255000 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射镀膜系统，包括真空泵和进气管；及安装于内的真空舱室内侧的极板、磁体、铜背板和靶材，及与靶材正对设置的基板，还包括设置于进气管上的流量阀，及设置于真空舱室内侧，用于特定光谱检测的光纤探头；所述光纤探头电连接到光谱仪；所述光谱仪通信连接到西门子PLC；所述流量阀电连接到西门子PLC；所述磁体为多组子磁体构成阵列；每组所述子磁体包括至少一永磁体和一电磁体；其中所述方法具体如下：第一步，磁控平面调整，第二步，镀膜启动，第三步，电磁体关闭，第四步，磁控溅射监控；本发明的磁控溅射镀膜控制方法，能够完成镀膜反应状态监测和控制，另外能够根据工艺要求，选择磁强等强或某一区域加强功能。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射镀膜 光谱仪 光纤探头 真空舱室 电磁体 电连接 进气管 流量阀 子磁体 靶材 镀膜 监测和控制 磁控溅射 反应状态 工艺要求 光谱检测 平面调整 正对设置 铜背板 永磁体 真空泵 磁控 磁强 等强 基板 极板 监控 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射镀膜系统包括真空舱室，及用于将真空舱室抽真空的真空泵，及给真空舱室内打入工作气体的进气管；及安装于内的真空舱室内侧的极板，及安装于极板上的磁体，及安装于磁体上的铜背板，及安装于铜背板上的靶材，及与靶材正对设置的基板，其特征在于：还包括设置于进气管上的流量阀，及设置于真空舱室内侧，用于特定光谱检测的光纤探头；所述光纤探头电连接到光谱仪；所述光谱仪通信连接到西门子PLC；所述流量阀电连接到西门子PLC；所述磁体为多组子磁体构成阵列；每组所述子磁体包括至少一永磁体和一电磁体；阵列中的所述永磁体构成一磁场强度相同的平面。/n
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