[发明专利]基底干燥方法、显影方法、光刻方法和基底干燥系统在审
| 申请号： | 201910722297.5 | 申请日： | 2019-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN111190331A | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 金伶厚;李根泽;赵庸真;高次元;朴晟见;李晓山;车知勋;崔秀瑛 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;G03F7/30;G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 陈亚男;尹淑梅 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了基底干燥方法、光致抗蚀剂显影方法、光刻方法和基底干燥系统。可提供基底干燥方法，该基底干燥方法包括在基底上提供干燥液体、增大干燥液体的压力以产生超临界流体和去除超临界流体以干燥基底。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 干燥 方法 显影 光刻 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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