[发明专利]一种光谱差异校正方法及系统有效

专利信息
申请号: 201910728930.1 申请日: 2019-08-08
公开(公告)号: CN112432917B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 朱志强;胡振环;冯恩波;任洁;刘建朋 申请(专利权)人: 北京蓝星清洗有限公司
主分类号: G01N21/359 分类号: G01N21/359;G01N21/35;G01N21/65;G01J3/44;G01J3/42
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 刘凤玲
地址: 101318 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种光谱差异校正方法及系统,方法包括通过对光谱矩阵进行一阶导数和SNV预处理,得到光谱矩阵P,基于光谱矩阵P,确定温度信号库M、背景信号库H及光谱温敏信号库W,对未知温度样本光谱进行一阶导数和SNV预处理得到光谱矩阵u;基于光谱温敏信号库W计算所述光谱矩阵u在区间[a,b]内与所述光谱温敏信号库W中的每一个向量w的夹角;基于夹角确定未知温度样本的温度区间;最后使用正交投影或斜投影,以所述背景信号库H为背景,以所述温度信号库M中的向量mi为投影方向进行斜投影计算,得到校正后的光谱u',大大提高了模型的预测精度使分子光谱定量或者定性分析模型不受温度变化的干扰,此外该方法可以大大降低建模的工作量。
搜索关键词: 一种 光谱 差异 校正 方法 系统
【主权项】:
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