[发明专利]光源装置在审
| 申请号： | 201910731808.X | 申请日： | 2019-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN110822300A | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 高桥幸司;卡尔·彼得·威尔南 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | F21K9/20 | 分类号： | F21K9/20;F21K9/68;F21K9/69;F21K9/64;F21V13/14;F21Y115/30 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 郝家欢 |
| 地址： | 日本国大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在反射型光源装置中，能够防止激光漏出至外部。一种光源装置中，激光激发荧光体发光部(20)的第一表面(21)，在相对于所述第一表面(21)分离设置有由透明部件构成的窗部(30)，在窗部(30)的一部分上设置有防漏光部(600)，所述防漏光部(600)防止在所述荧光体发光部(20)的所述第一表面(21)反射的所述激光通过所述窗部(30)漏出至外部。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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