[发明专利]基于非晶氧化镓薄膜的日盲紫外探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910732617.5 申请日: 2019-08-09
公开(公告)号: CN110444618B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 张彦芳;程东;叶建东;巩贺贺;陈选虎;任芳芳;朱顺明;顾书林 申请(专利权)人: 南京大学;南京大学深圳研究院;中电科技德清华莹电子有限公司
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/0392;H01L31/108;H01L31/0224;H01L31/20
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 赵艳平
地址: 210093 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于非晶氧化镓薄膜的柔性日盲紫外探测器,探测器以高分子(如PET、聚酰亚胺)薄膜或织物为柔性衬底,使用超宽禁带半导体氧化镓(Ga2O3)(半导体层)为光探测材料,使用金属或氮化钛(TiN)半导体作为电极材料,通过光刻、刻蚀和薄膜沉积等半导体工艺制备肖特基接触电极层,形成金属电极‑半导体层‑金属电极(MSM)结构探测器,可实现对波长小于280nm的日盲紫外光的有效探测。
搜索关键词: 基于 氧化 薄膜 紫外 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.基于非晶氧化镓薄膜的柔性日盲紫外探测器,其特征在于,探测器以高分子(如PET、聚酰亚胺)薄膜或织物为柔性衬底,使用超宽禁带半导体氧化镓(Ga2O3)(半导体层)为光探测材料,使用金属或氮化钛(TiN)半导体作为电极材料,通过光刻、刻蚀和薄膜沉积等半导体工艺制备肖特基接触电极层,形成金属电极‑半导体层‑金属电极(MSM)结构探测器,可实现对波长小于280nm的日盲紫外光的有效探测。
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