[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示面板有效

专利信息
申请号: 201910733593.5 申请日: 2019-08-09
公开(公告)号: CN110600482B 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 许祖钊 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板,该阵列基板包括:基底,基底包括显示区域;位于基底上的低温多晶硅层,低温多晶硅层位于显示区域;位于基底上且覆盖低温多晶硅层的无机膜组层,无机膜组层上设有通孔,通孔位于低温多晶硅层上方,且通孔的侧壁与底壁之间的夹角不小于100度;位于无机膜组层上的源漏极层,源漏极层覆盖通孔的侧壁和底壁,以与低温多晶硅层连接。通过这种方式,减小位于源漏极层与低温多晶硅层之间的层间通孔的锥角,进而避免源漏极层由于层间通孔的锥角过大而出现厚度较薄甚至断线的问题,从而提高产品良率。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制作方法 显示 面板
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:/n基底,所述基底包括显示区域;/n位于所述基底上的低温多晶硅层,所述低温多晶硅层位于所述显示区域;/n位于所述基底上且覆盖所述低温多晶硅层的无机膜组层,所述无机膜组层上设有通孔,所述通孔位于所述低温多晶硅层上方,且所述通孔的侧壁与底壁之间的夹角不小于100度;/n位于所述无机膜组层上的源漏极层,所述源漏极层覆盖所述通孔的侧壁和底壁,以与所述低温多晶硅层连接。/n
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