[发明专利]一种基于EPI的光场图像关键位置检测方法有效

专利信息
申请号: 201910735223.5 申请日: 2019-08-09
公开(公告)号: CN110580481B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 金海燕;边敏艳;肖照林;蔡磊;李秀秀 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: G06V10/44 分类号: G06V10/44;G06V10/60
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 杜娟
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明一种基于EPI的光场图像关键位置检测方法:步骤1、对光场图像进行解码得到四维光场矩阵;步骤2、得到光场图像的中心行、中心列子孔径图像;步骤3、提取3D水平EPI立方体和3D垂直EPI立方体;步骤4、确定多个尺度上都被检测到的特征点;步骤5、处理得到关键位置线;步骤6、确定得到光场图像上稳定的特征点即光场关键位置;步骤7、删除重复的光场关键位置,最终得到光场图像上所有关键位置。本发明一种基于EPI的光场图像关键位置检测方法,克服了现有的光场图像特征检测方法检测出的特征点不稳定问题,能够准确检测到光场图像上稳定的关键位置,具有鲁棒性且时间复杂度低,适用于不同场景。
搜索关键词: 一种 基于 epi 图像 关键 位置 检测 方法
【主权项】:
1.一种基于EPI的光场图像关键位置检测方法,其特征在于,具体按照以下步骤实施:/n步骤1、对原始的光场图像name_LensletRaw.bmp进行解码得到四维光场矩阵LF[u,v,s,t];/n步骤2、利用MATLAB对四维光场矩阵LF[u,v,s,t]进行提取,再对提取得到的中心行、中心列子孔径图像进行灰度化处理;/n步骤3、在灰度化处理后的中心行、中心列子孔径图像上提取3D水平EPI立方体和3D垂直EPI立方体;/n步骤4、对灰度化处理后的中心行、中心列子孔径图像进行多尺度Harris特征点检测,确定光场图像上在多个尺度上都被检测到的特征点;/n步骤5、将经步骤4得到的特征点投影到经步骤3得到的相应EPI立方体上对应的EPI图像上,处理得到关键位置线;/n步骤6、对特征点投影之后的每个EPI图像先进行hough线检测再滤波,确定得到光场图像上稳定的特征点即光场关键位置;/n步骤7、删除重复的光场关键位置,并将剩下的光场关键位置显示在光场图像name_LensletRaw.bmp上,最终得到光场图像上所有关键位置。/n
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