[发明专利]一种钨酸亚锡薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201910740581.5 | 申请日： | 2019-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN110331367B | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 博热耶夫·法拉比;埃泽尔·阿金诺古;冯柯;金名亮;迈克尔·吉尔森 | 申请（专利权）人： | 肇庆市华师大光电产业研究院 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州正明知识产权代理事务所(普通合伙) 44572 | 代理人： | 成姗 |
| 地址： | 526000 广东省肇庆市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明属于导电氧化物薄膜技术领域，具体公开一种钨酸亚锡薄膜的制备方法。本发明利用射频共溅射法，在真空度为4~7x10 |
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| 搜索关键词： | 一种 钨酸亚锡 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种钨酸亚锡薄膜的制备方法，其特征在于，利用射频共溅射法，在真空度为4~7x10‑4 Pa的反应腔内，通入氧气和氩气的混合气体，通过射频电源分别对锡靶和钨靶施加80~150W的功率，形成等离子体，氩气的分压为0.9Pa，氧气分压为0至0.42Pa，沉积时间为30秒到10分钟，沉积完成后，在400~600℃下在真空退火20~40分钟。
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