[发明专利]光刻胶及光刻方法有效
| 申请号： | 201910743009.4 | 申请日： | 2019-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN110501873B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 袁华;黄永发;杨尚勇;胡展源 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201315 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光刻胶和光刻方法，属于半导体制造技术领域。所述光刻胶包括：化学放大胶，该化学放大胶包括聚合树脂和光致产酸剂；碱性添加剂，在被光照后，该碱性添加剂的酸碱度由碱性转变至酸性。本申请通过在包含光学放大胶的光刻胶中添加碱性添加剂，在将该光刻胶应用于光刻工艺时，光刻胶中的光致消碱剂在曝光区域碱性消失，不影响光酸化学放大，保留非曝光区域的碱性，淬灭非曝光区域产生的微量酸分子，使得曝光区域和非曝光区域酸分子浓度差异增大，提高了曝光区域与非曝光区域的对比度，从而能够优化光刻图形的形貌，增大光刻的工艺窗口。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶，其特征在于，所述光刻胶应用于制备半导体器件的光刻工艺中，所述光刻胶包括：/n化学放大胶，所述化学放大胶包括聚合树脂和光致产酸剂；/n碱性添加剂，在被光照后，所述碱性添加剂的酸碱度由碱性转变至酸性。/n
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