[发明专利]一种基于深度学习模版匹配算法检测成衣印花缺陷的方法有效

专利信息
申请号: 201910744804.5 申请日: 2019-08-13
公开(公告)号: CN110570397B 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 张发恩;郭勅君 申请(专利权)人: 创新奇智(重庆)科技有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06K9/38;G06K9/62;G01N21/88;G01N21/956
代理公司: 北京中南长风知识产权代理事务所(普通合伙) 11674 代理人: 郑海
地址: 400039 重庆市九龙坡区*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种基于深度学习模版匹配算法检测成衣印花缺陷的方法,包括如下步骤:模版获取:服装生产前,采集第一张完整的印花成品作为模版,并记录其在相机所拍影像中的相对位置;样本采集:服装大量生产时,透过先前记录的相对位置,利用模版图进行传统算法的模版匹配找到与模版图最相似的图片,将该位置抠出作为样本图;图像处理:将模版图和样本图作为Siamese diff Unet模型的输入,进而得到输出的heat map图;缺陷滤出:设定门限值将缺陷几率太小的值滤除,获取heat map缺陷图;缺陷拾取:将heat map缺陷图进行二值化处理,获取对应的缺陷mask图,本发明设计合理,能够大大提升成衣印花的检测精度、检测效率以及鲁棒性。
搜索关键词: 一种 基于 深度 学习 模版 匹配 算法 检测 成衣 印花 缺陷 方法
【主权项】:
1.一种基于深度学习模版匹配算法检测成衣印花缺陷的方法,其特征在于,包括如下步骤:/nS100、模版获取:服装生产前,采集第一张完整的印花成品作为模版,并记录其在相机所拍影像中的相对位置;/nS200、样本采集:服装大量生产时,透过先前记录的相对位置,利用模版图进行传统算法的模版匹配找到与模版图最相似的图片,将该位置抠出作为样本图;/nS300、图像处理:将模版图和样本图作为Siamese diffUnet模型的输入,进而得到输出的heatmap图;/nS400、缺陷滤出:设定门限值将缺陷几率太小的值滤除,获取heat map缺陷图;/nS500、缺陷拾取:将heat map缺陷图进行二值化处理,获取对应的缺陷mask图。/n
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