[发明专利]一种大分子共组装诱导低χ值聚合物制备均孔膜的方法在审

专利信息
申请号: 201910745066.6 申请日: 2019-08-13
公开(公告)号: CN110585937A 公开(公告)日: 2019-12-20
发明(设计)人: 易砖;朱国栋;殷煜镕;刘立芬 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: B01D71/80 分类号: B01D71/80;B01D69/02;B01D67/00
代理公司: 33200 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 邱启旺
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种大分子共组装诱导低χ值聚合物制备均孔膜的方法。所述方法选用含有酰胺键或酯键等氢键受体的嵌段聚合物作为成膜材料,利用外源性大分子提供的氢键作用增强嵌段聚合物之间的不相容性,促进嵌段聚合物自组装形成均孔膜。所述方法的过程如下:将嵌段聚合物、氢键给体聚合物、溶剂混合形成均相溶液,用刮刀将铸膜液在基底上铺展开,空气中停留一定时间后浸入凝固浴中相转化成膜。本发明解决了低χ值嵌段聚合在溶液中难以发生微相分离的问题,为均孔膜的制备和性能的提升提供了新的思路,也为不同层面实现均孔膜功能和性能的多样化设计提供了更多选择;通过本发明方法制备得到的膜内部结构更加疏松,强度更强,具有更高的通量。
搜索关键词: 嵌段聚合物 孔膜 氢键 制备 聚合物制备 不相容性 成膜材料 均相溶液 嵌段聚合 氢键给体 溶剂混合 微相分离 作用增强 浸入 聚合物 凝固浴 外源性 铸膜液 自组装 酰胺键 成膜 刮刀 基底 通量 酯键 疏松 上铺 诱导 组装 停留 转化
【主权项】:
1.一种大分子共组装诱导低χ值聚合物制备均孔膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:/n(1)将嵌段聚合物、溶剂、添加剂混合形成均相的铸膜液;所述嵌段聚合物在铸膜液中的质量分数为3~33wt%,所述嵌段聚合物为含酯键或酰胺键氢键受体的嵌段聚合物,添加剂为氢键给体聚合物;添加剂与嵌段聚合物的质量比为0.01~0.5:1。/n(2)用刮刀将铸膜液在平整的基底上面铺展开,在空气中停留5-120s时间制得初生膜;/n(3)将初生膜浸入凝固浴中相转化得到均孔膜,最后保存在去离子水中。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工业大学,未经浙江工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910745066.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top