[发明专利]一种具有双图显示功能的微纳波片阵列及其构建方法有效
申请号: | 201910745105.2 | 申请日: | 2019-08-13 |
公开(公告)号: | CN110568540B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 李子乐;郑国兴;戴琦;付娆;邓娟;邓联贵 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B27/00;G06F30/20 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 石超群 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有双图显示功能的微纳波片阵列及其构建方法,具有双图显示功能的微纳波片阵列,包括多个纳米结构单元,纳米结构单元包括方形的工作面和刻蚀在工作面的纳米砖,将平行于工作面相邻两条边的方向分别定义为x轴和y轴建立xoy坐标系,将纳米砖与工作面平行的面的相邻两条边分别定义为长边L和宽边W,纳米砖的转向角为纳米砖的长边L与x轴的夹角θ,多个纳米结构单元中的纳米砖以不尽相同的尺寸在多个工作面上排列形成纳米砖阵列,纳米砖阵列中每个纳米结构单元等效为一个波片,波片快慢轴相位差可以实现0到π内任意值。本发明具有两种工作模式,可分别独立调控图像灰度并互不影响,实现简单,不需要复杂的光学装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 显示 功能 微纳波片 阵列 及其 构建 方法 | ||
【主权项】:
1.一种具有双图显示功能的微纳波片阵列,其特征在于:包括多个纳米结构单元,所述纳米结构单元包括方形的工作面和刻蚀在所述工作面的纳米砖,将平行于所述工作面相邻两条边的方向分别定义为x轴和y轴建立xoy坐标系,将所述纳米砖与工作面平行的面的相邻两条边分别定义为长边L和宽边W,所述纳米砖的转向角为纳米砖的长边L与x轴的夹角θ,多个所述纳米结构单元中的纳米砖以不尽相同的尺寸在多个所述工作面上排列形成纳米砖阵列,所述纳米砖阵列中每个纳米结构单元等效为一个波片,波片快慢轴相位差可以实现0到π内任意值。/n
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