[发明专利]一种基于互相关的评价面形测量方法有效性的方法有效
申请号: | 201910747167.7 | 申请日: | 2019-08-14 |
公开(公告)号: | CN110455216B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 郝群;陶鑫;刘洋;胡摇 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24;G06F17/10 |
代理公司: | 北京理工正阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 | 代理人: | 邬晓楠 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明公开的一种基于互相关的评价面形测量方法有效性的方法,属于面形测量技术领域。本发明选取成熟的面形测量方法对一个光学表面测量P次,测量结果记为S |
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搜索关键词: | 一种 基于 互相 评价 测量方法 有效性 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于互相关的评价面形测量方法有效性的方法,其特征在于:包括如下步骤:/n步骤1:选取一种成熟的面形测量方法对一个光学表面测量P次,P≥3;/n步骤2:对步骤1获得的测量数据进行取平均处理,测量结果记为S1(m,n);/n步骤3:使用被评价面形测量方法测量对同一个光学元件测量P次,P≥3;/n步骤4:对步骤3获得的测量数据进行取平均处理,测量结果记为S2(m,n);/n步骤5:以使用成熟的面形测量方法得到的测量结果S1(m,n)作为参照,对使用被评价面形测量方法得到的测量结果S2(m,n)进行位置匹配;/n步骤6:将步骤2中的S1(m,n)和步骤4中的S2(m,n)代入归一化互相关关系数公式,得到归一化互相关系数ncc;将步骤2中的S1(m,n)和步骤4中的S2(m,n)代入衰减率公式得到衰减率A,并将归一化互相关系数ncc和衰减率A相乘得到误差一致性系数SECC;/n步骤7:根据步骤6获得的误差一致性系数SECC评价面形误差一致性,SEEC越趋近于100%,被评价面形测量方法与选取的成熟的面形测量方法越接近一致,被评价面形测量方法与选取的成熟的面形测量方法越接近一致,则被评价面形测量方法有效性越好,当SECC大于预设阈值则判定被评价面形测量方法有效。/n
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