[发明专利]一种基于互相关的评价面形测量方法有效性的方法有效

专利信息
申请号: 201910747167.7 申请日: 2019-08-14
公开(公告)号: CN110455216B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 郝群;陶鑫;刘洋;胡摇 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24;G06F17/10
代理公司: 北京理工正阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 代理人: 邬晓楠
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开的一种基于互相关的评价面形测量方法有效性的方法,属于面形测量技术领域。本发明选取成熟的面形测量方法对一个光学表面测量P次,测量结果记为S1(m,n);使用被评价面形测量方法测量对同一个光学元件测量P次,测量结果记为S2(m,n);以S1(m,n)作为参照,对使用被评价面形测量方法得到的测量结果S2(m,n)进行位置匹配;将S1(m,n)和S2(m,n)分别代入归一化互相关关系数公式、衰减率公式,得到归一化互相关系数ncc和得到衰减率A,并将归一化互相关系数ncc和衰减率A相乘得到误差一致性系数SECC;根据误差一致性系数SECC评价面形误差一致性,SECC越趋近于100%,被评价面形测量方法与选取的成熟的面形测量方法越接近一致,则被评价面形测量方法有效性越好。
搜索关键词: 一种 基于 互相 评价 测量方法 有效性 方法
【主权项】:
1.一种基于互相关的评价面形测量方法有效性的方法,其特征在于:包括如下步骤:/n步骤1:选取一种成熟的面形测量方法对一个光学表面测量P次,P≥3;/n步骤2:对步骤1获得的测量数据进行取平均处理,测量结果记为S1(m,n);/n步骤3:使用被评价面形测量方法测量对同一个光学元件测量P次,P≥3;/n步骤4:对步骤3获得的测量数据进行取平均处理,测量结果记为S2(m,n);/n步骤5:以使用成熟的面形测量方法得到的测量结果S1(m,n)作为参照,对使用被评价面形测量方法得到的测量结果S2(m,n)进行位置匹配;/n步骤6:将步骤2中的S1(m,n)和步骤4中的S2(m,n)代入归一化互相关关系数公式,得到归一化互相关系数ncc;将步骤2中的S1(m,n)和步骤4中的S2(m,n)代入衰减率公式得到衰减率A,并将归一化互相关系数ncc和衰减率A相乘得到误差一致性系数SECC;/n步骤7:根据步骤6获得的误差一致性系数SECC评价面形误差一致性,SEEC越趋近于100%,被评价面形测量方法与选取的成熟的面形测量方法越接近一致,被评价面形测量方法与选取的成熟的面形测量方法越接近一致,则被评价面形测量方法有效性越好,当SECC大于预设阈值则判定被评价面形测量方法有效。/n
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