[发明专利]微影的方法、集成电路的制造方法及清洗溶液有效
| 申请号： | 201910748727.0 | 申请日： | 2019-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN110824858B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 王建惟;赖韦翰;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/30;G03F7/42;H05K3/06 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 聂慧荃;闫华 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种微影的方法、集成电路的制造方法及清洗溶液，提供在现有技术能达到高图案结构整合度的光刻胶清洗溶液及相应的微影技术。示范的微影方法包含在工作件上形成光刻胶层，将光刻胶层对辐射进行曝光，使用显影剂对曝光的光刻胶层进行显影，以移除曝光的光刻胶层的未曝光部分，借此形成图案化的光刻胶层，以及使用清洗溶液以清洗图案化的光刻胶层。显影剂为有机溶液，且清洗溶液包含水。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 集成电路 制造 清洗 溶液 | ||
【主权项】：
暂无信息
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