[发明专利]一种硅片的清洗槽在审
| 申请号： | 201910748963.2 | 申请日： | 2019-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN112387692A | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 刘爱军;曹丙强;庄艳歆;周浪 | 申请（专利权）人： | 江苏金晖光伏有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/02;B08B3/08;B08B3/04;B08B13/00;F26B21/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 扬州润中专利代理事务所(普通合伙) 32315 | 代理人： | 张琳 |
| 地址： | 225600 江苏省扬*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片的清洗槽，涉及硅片生产技术领域，具体为一种硅片的清洗槽，包括槽体，所述槽体的顶部固定安装有超声波发生器，所述槽体的右侧固定连接有排液口，所述排液口的顶部固定安装有控制阀，所述槽体的内部固定连接有挡板，所述挡板的顶部放置有硅片放置板，所述硅片放置板的顶部设置有卡槽，所述硅片放置板顶部的右侧固定连接有侧板。该硅片的清洗槽，通过设置高压喷头使清洗液形成高压水流对硅片进行冲洗，能够有效地取出硅片表面的附着物，当冲洗的清洗漫过硅片的顶部时，通过超声波发生器产生的超声波使清洗液震动，对硅片进行二次的清洗，提高了硅片的清洗效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 | ||
【主权项】：
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