[发明专利]一种Micro-LED阵列及其制备方法有效
申请号: | 201910752615.2 | 申请日: | 2019-08-15 |
公开(公告)号: | CN110444559B | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 殷录桥;张建华;张豆豆 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L33/62;H01L33/00 |
代理公司: | 北京卓胜佰达知识产权代理有限公司 16026 | 代理人: | 杨洋 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种Micro‑LED阵列及其制备方法,涉及LED封装领域,主要包括硅基板、金属基板以及位于硅基板、金属基板之间的多个相同的发光芯片;发光芯片由下向上依次设置金属触点、p型氮化镓层、多量子阱层和n型氮化镓层;硅基板上设置有布线,金属触点通过布线与硅基板电气互联,金属基板设置在n型氮化镓层上;金属触点作为发光芯片的p电极;金属基板作为发光芯片的n电极;当硅基板通电后,电流从金属触点流向金属基板,实现Micro‑LED阵列的发光。本发明公开的Micro‑LED阵列及其制备方法,能够实现Micro‑LED阵列的无金线封装。 | ||
搜索关键词: | 一种 micro led 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种Micro‑LED阵列,其特征在于,包括硅基板、金属基板以及位于所述硅基板、所述金属基板之间的多个相同的发光芯片;所述发光芯片由下向上依次设置金属触点、p型氮化镓层、多量子阱层和n型氮化镓层;其中,所述硅基板上设置有布线,所述金属触点通过所述布线与所述硅基板电气互联,所述金属基板设置在所述n型氮化镓层上;所述金属触点作为所述发光芯片的p电极,所述金属触点用于产生空穴,所述p型氮化镓层用于传输所述空穴;所述金属基板作为所述发光芯片的n电极,所述金属基板用于产生所述电子;所述n型氮化镓层用于传输所述电子;所述多量子阱层用于对所述电子和所述空穴进行复合,产生光子;当所述硅基板通电后,电流从所述金属触点流向所述金属基板,实现Micro‑LED阵列的发光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学,未经上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910752615.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:发光装置及其制造方法
- 下一篇:显示面板和显示面板的制备方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的