[发明专利]一种Micro-LED阵列及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910752615.2 申请日: 2019-08-15
公开(公告)号: CN110444559B 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 殷录桥;张建华;张豆豆 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/62;H01L33/00
代理公司: 北京卓胜佰达知识产权代理有限公司 16026 代理人: 杨洋
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种Micro‑LED阵列及其制备方法,涉及LED封装领域,主要包括硅基板、金属基板以及位于硅基板、金属基板之间的多个相同的发光芯片;发光芯片由下向上依次设置金属触点、p型氮化镓层、多量子阱层和n型氮化镓层;硅基板上设置有布线,金属触点通过布线与硅基板电气互联,金属基板设置在n型氮化镓层上;金属触点作为发光芯片的p电极;金属基板作为发光芯片的n电极;当硅基板通电后,电流从金属触点流向金属基板,实现Micro‑LED阵列的发光。本发明公开的Micro‑LED阵列及其制备方法,能够实现Micro‑LED阵列的无金线封装。
搜索关键词: 一种 micro led 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种Micro‑LED阵列,其特征在于,包括硅基板、金属基板以及位于所述硅基板、所述金属基板之间的多个相同的发光芯片;所述发光芯片由下向上依次设置金属触点、p型氮化镓层、多量子阱层和n型氮化镓层;其中,所述硅基板上设置有布线,所述金属触点通过所述布线与所述硅基板电气互联,所述金属基板设置在所述n型氮化镓层上;所述金属触点作为所述发光芯片的p电极,所述金属触点用于产生空穴,所述p型氮化镓层用于传输所述空穴;所述金属基板作为所述发光芯片的n电极,所述金属基板用于产生所述电子;所述n型氮化镓层用于传输所述电子;所述多量子阱层用于对所述电子和所述空穴进行复合,产生光子;当所述硅基板通电后,电流从所述金属触点流向所述金属基板,实现Micro‑LED阵列的发光。
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