[发明专利]用于刀具的涂覆涂层及其制备方法有效
申请号: | 201910754365.6 | 申请日: | 2019-08-15 |
公开(公告)号: | CN110359029B | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 王栋;肖旭凯;高江雄;林孝良;马建忠 | 申请(专利权)人: | 株洲华锐精密工具股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/34;C23C16/36;C23C16/38;C23C28/04 |
代理公司: | 长沙轩荣专利代理有限公司 43235 | 代理人: | 张勇 |
地址: | 412000 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种用于刀具的涂覆涂层及其制备方法,涂覆涂层从下到上依次包括:TiN层,所述TiN层的厚度为0.5~1.0μm;TiCN层,所述TiCN层的厚度均为0.5~1.0μm;TiSiCN层,所述TiSiCN层的厚度均为2~8μm;TiSiCNO层,厚度为3~8μm;TiB层,厚度为0.5~2μm。制备方法具体为用化学气相沉积法在相应温度、气氛和气压下在硬质合金刀片上依次沉积上述涂层。涂覆有上述涂层的刀片硬度和耐磨性更强、耐磨损程度更高,使用寿命更长。 | ||
搜索关键词: | 用于 刀具 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于刀具的涂覆涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将数控刀片放入反应室内,再将反应室气压抽至10mbar以下;(2)在反应室温度为920~980℃,压力为50~200mbar的条件下通入TiCl4、N2和H2的混合气体,在所述数控刀片上沉积一层0.5~1μm的TiN层;(3)在反应室温度为920~980℃,压力为200~500mbar的条件下通入TiCl4、N2、CH4和H2的混合气体,在TiN层上沉积一层0.5~1μm的TiCN层;(4)在反应室温度为920~980℃,压力为50~200mbar的条件下通入TiCl4、SiCl4、N2、NH3和H2的混合气体,在TiCN层上沉积一层2~8μm的TiSiCN层;(5)在反应室温度为920~980℃,压力为50~200mbar的条件下通入TiCl4、SiCl4、CO2、CO、HCl、NH3和H2的混合气体,在TiSiCN表面上沉积一层3~8μm的TiSiCNO层;(6)在反应室温度为950~1010℃,压力为200~700mbar的条件下通入TiCl4、BCl3和H2的混合气体,在TiSiCNO表面上沉积一层0.5~2μm的TiB2层,完成用于刀具的涂覆涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株洲华锐精密工具股份有限公司,未经株洲华锐精密工具股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910754365.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的