[发明专利]使用透镜阵列的光学装置、图像形成装置在审

专利信息
申请号: 201910754908.4 申请日: 2019-08-15
公开(公告)号: CN110989307A 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 白石贵志 申请(专利权)人: 东芝泰格有限公司
主分类号: G03G15/04 分类号: G03G15/04
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 田喜庆
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种能够扩大可通过透镜阵列成像的射入光的有效宽度的光学装置。实施方式涉及的光学装置具有:发光面;透镜阵列,配列有多个光学元件,所述光学元件具备使来自所述发光面的光透过并会聚的射入面、将经由所述射入面射入的光射出的射出面、以及将经由所述射入面射入的光朝向所述射出面反射的多个反射面;以及像面,经由所述射出面射出的光在所述像面成像,将所述发光面和所述像面非平行地配置,以便第一平面和第二平面在所述多个反射面中具有使所述发光面上的物点和所述像面上的像点接近共轭的功率的反射面侧交叉,所述第一平面是与所述发光面平行的虚拟的平面,所述第二平面是与所述像面的切平面平行的虚拟的平面。
搜索关键词: 使用 透镜 阵列 光学 装置 图像 形成
【主权项】:
暂无信息
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