[发明专利]固体源升华器在审
申请号: | 201910756128.3 | 申请日: | 2019-08-16 |
公开(公告)号: | CN110835749A | 公开(公告)日: | 2020-02-25 |
发明(设计)人: | E·J·希罗;C·L·怀特;M·E·韦尔盖塞;K·范德如里奥;T·J·沙利文 | 申请(专利权)人: | ASMIP控股有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 魏延玲 |
地址: | 荷兰,*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文公开了与固体源化学升华器容器和相应的沉积模块有关的系统和方法。固体源化学升华器可以包括配置成在其中保持固体化学反应物的壳体。盖可以布置在所述壳体的近侧部分上。所述盖可以包括流体入口和流体出口,并且在所述盖的远侧部分内限定蛇形流动路径。所述盖可以适于允许所述流动路径内的气流。所述固体源化学升华器可以包括布置在所述蛇形流动路径和所述壳体的远侧部分之间的过滤器。所述过滤器可以具有配置成限制固体化学反应物通过其中的孔隙率。 | ||
搜索关键词: | 固体 升华 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的