[发明专利]表面浮雕光栅结构的制作方法有效
| 申请号： | 201910757521.4 | 申请日： | 2019-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN110632689B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 王晶 | 申请（专利权）人： | 诚瑞光学（常州）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 | 代理人： | 李倩竹 |
| 地址： | 213000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种表面浮雕光栅结构的制作方法。本发明的表面浮雕光栅结构的制作方法,包括光栅母板制作以及光栅结构转移过程，光栅母板制作过程中，增加母板镀膜过程，选择刻蚀速率与衬底基材不同的金属膜层，在进行母板刻蚀过程时，可以控制离子束的功率而达到精准控制衬底基材刻蚀深度的效果；同时离子束的发射线与显影完成的衬底基材一端面的夹角非直角，使得刻蚀槽面形成倾斜槽面，以达到带梯形夹缝的光栅母板。本发明的离子束刻蚀效率高，适合用于大面积的加工和量产使用，应用很广泛。相对激光直写方法来说，设置好预先确认的离子束刻蚀参数，一次成型，效率高且可控度高，目标光栅结构更能符合尺寸要求，且操作更加简单。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 浮雕 光栅 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种表面浮雕光栅结构的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1、光栅母板制作，包括以下步骤：/n母板镀膜：提供衬底基材，在所述衬底基材的表面镀上与所述衬底基材刻蚀速率不同的金属膜层，得到第一光栅母板；/n母板涂胶：在所述第一光栅母板的所述金属膜层表面涂覆光刻胶层，得到第二光栅母板；/n曝光显影：使用电子束对所述第二光栅母板的光刻胶层表面对应位置进行曝光，并通过显影液显影，得到剩余光刻胶层具有目标线宽夹缝的第三光栅母板；/n母板刻蚀：采用离子束刻蚀所述第三光栅母板，其中，所述剩余光刻胶层、所述金属膜层以及所述衬底基材依次被刻蚀，所述离子束的发射线与所述显影完成的衬底基材表面的夹角非直角，以被刻蚀出只剩衬底基材且带梯形夹缝的目标光栅母板；/nS2、光栅结构转移：将所述目标光栅母板的结构压印到待处理光栅结构的压印层上，得到目标光栅结构。/n
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