[发明专利]一种二维材料复光导率确定方法有效

专利信息
申请号: 201910757724.3 申请日: 2019-08-16
公开(公告)号: CN110567882B 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 刘世元;宋宝坤;谷洪刚;方明胜;郭正峰;陈修国;江浩 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01N21/21 分类号: G01N21/21
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智;张彩锦
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于二维材料测量领域,并具体公开了一种二维材料复光导率确定方法,其首先根据电磁波在待测二维材料中的传播效应确定对应的计算方式;对于传播效应弱的二维材料,将其等效为无限薄片层,将二维材料椭偏参数用其复光导率进行表示,从而拟合提取得到二维材料的复光导率;对于电磁波传播效应强的材料,先确定其介电函数或复折射率,然后借助介电函数或复折射率与复光导率间的转换关系确定二维材料的复光导率。该方法全面系统,操作流程清晰明了,充分考虑二维材料光电响应机理,分析结果准确可靠,适用于各种二维材料复光导率的确定。
搜索关键词: 一种 二维 材料 复光导率 确定 方法
【主权项】:
1.一种二维材料复光导率确定方法,其特征在于,包括如下步骤:/nS1根据电磁波在待测二维材料中的传播效应确定对应的计算方式:/n当2πn(E)D/λ<0.1时,采用步骤S2确定待测二维材料的复光导率;/n当2πn(E)D/λ≥0.1时,采用步骤S3确定待测二维材料的复光导率;/n其中,n(E)为电磁波能量为E时待测二维材料的折射率,λ为电磁波波长,D为待测二维材料的理论厚度;/nS2建立待测二维材料的复光导率σ与其椭偏参数[Ψ,Δ]的关系式,根据该关系式通过拟合算法得到待测二维材料的复光导率,该关系式为:/n
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