[发明专利]介质滤波器在审

专利信息
申请号: 201910758672.1 申请日: 2019-08-16
公开(公告)号: CN110380165A 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 陈荣达;陈国峰 申请(专利权)人: 苏州艾福电子通讯有限公司
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01P1/207
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 韩凤
地址: 215129 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种介质滤波器,其包括:本体、设置于本体上的负耦合结构和谐振腔;本体具有顶面和底面,负耦合结构包括:开设于本体底面上的底部盲槽、开设于盲槽中的通孔、形成于本体底面上并沿底部盲槽的槽口边缘设置的凹槽、开设于本体顶面的顶部盲槽,底部盲槽与顶部盲槽的位置对应设置,底部盲槽和底部盲槽的深度h、长度l、宽度w、凹槽的内径R1、外径R2与介质滤波器的滤波带宽呈反比,谐振腔分布于负耦合结构的两侧,任一谐振腔自本体的顶面延伸至本体的中部。本发明的介质滤波器通过在本体的顶面上设置负耦合结构,其可对滤波器的负耦合量的大小进行调节,进而控制滤波器的滤波带宽,有利于获得需求滤波带宽的滤波器。
搜索关键词: 盲槽 介质滤波器 耦合结构 滤波带宽 滤波器 谐振腔 顶面 控制滤波器 槽口边缘 和谐振腔 耦合量 底面 通孔 延伸
【主权项】:
1.一种介质滤波器,其特征在于,所述介质滤波器包括:本体、设置于所述本体上的负耦合结构和谐振腔;所述本体具有顶面和底面,所述负耦合结构包括:开设于所述本体底面上的底部盲槽、开设于所述盲槽中的通孔、形成于所述本体底面上并沿所述底部盲槽的槽口边缘设置的凹槽、开设于所述本体顶面的顶部盲槽,所述底部盲槽与顶部盲槽的位置对应设置,所述底部盲槽和底部盲槽的深度h、长度l、宽度w、凹槽的内径R1、外径R2与所述介质滤波器的滤波带宽呈反比,所述谐振腔分布于所述负耦合结构的两侧,任一所述谐振腔自所述本体的顶面延伸至所述本体的中部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州艾福电子通讯有限公司,未经苏州艾福电子通讯有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910758672.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top