[发明专利]一种提高成品率的相变存储器及制备方法有效
申请号: | 201910759489.3 | 申请日: | 2019-08-16 |
公开(公告)号: | CN110534643B | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
发明(设计)人: | 缪向水;周凌珺;童浩 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 宋敏 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种提高成品率的相变存储器,其中,包括依次设置的:一衬底材料层;一第一电极;一粘附层;一绝缘介质材料层;一相变材料层;一第二电极;在底部电极上增加了粘附层,增强了绝缘介质材料层与底部电极的粘附性,保证了后续工艺沉积的薄膜牢固;而且,在完成绝缘介质材料层的刻蚀后,在刻蚀工艺中采用了过刻蚀工艺,过刻蚀粘附层形成接触孔,既保证了绝缘介质材料层刻蚀干净,又保证了后续沉积的相变材料层与底部电极接触良好,克服了异常短路或开路问题,提高了器件性能和成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 成品率 相变 存储器 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种提高成品率的相变存储器,其特征在于,包括依次设置的:/n一衬底材料层(100);/n一第一电极(101);/n一粘附层(103);/n一绝缘介质材料层(104);/n一相变材料层(105);/n一第二电极(102);/n在完成所述绝缘介质材料层(104)的刻蚀后,直接过刻蚀所述粘附层(103)形成接触孔(110),所述相变材料层(105)部分位于所述绝缘介质材料层(104)和所述粘附层(103)的接触孔(110)中,并与所述第一电极(101)接触。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910759489.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。