[发明专利]一种提高成品率的相变存储器及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910759489.3 申请日: 2019-08-16
公开(公告)号: CN110534643B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 缪向水;周凌珺;童浩 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 代理人: 宋敏
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种提高成品率的相变存储器,其中,包括依次设置的:一衬底材料层;一第一电极;一粘附层;一绝缘介质材料层;一相变材料层;一第二电极;在底部电极上增加了粘附层,增强了绝缘介质材料层与底部电极的粘附性,保证了后续工艺沉积的薄膜牢固;而且,在完成绝缘介质材料层的刻蚀后,在刻蚀工艺中采用了过刻蚀工艺,过刻蚀粘附层形成接触孔,既保证了绝缘介质材料层刻蚀干净,又保证了后续沉积的相变材料层与底部电极接触良好,克服了异常短路或开路问题,提高了器件性能和成品率。
搜索关键词: 一种 提高 成品率 相变 存储器 制备 方法
【主权项】:
1.一种提高成品率的相变存储器,其特征在于,包括依次设置的:/n一衬底材料层(100);/n一第一电极(101);/n一粘附层(103);/n一绝缘介质材料层(104);/n一相变材料层(105);/n一第二电极(102);/n在完成所述绝缘介质材料层(104)的刻蚀后,直接过刻蚀所述粘附层(103)形成接触孔(110),所述相变材料层(105)部分位于所述绝缘介质材料层(104)和所述粘附层(103)的接触孔(110)中,并与所述第一电极(101)接触。/n
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