[发明专利]一种曝光机在审
申请号: | 201910762211.1 | 申请日: | 2019-08-19 |
公开(公告)号: | CN110609451A | 公开(公告)日: | 2019-12-24 |
发明(设计)人: | 苏顺森 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请提供了一种曝光机,该曝光机包括机架、检测器及防护件,机架用于装入掩模板,检测器安装于机架上并用于检测掩模板是否装入机架,防护件用于在掩模板的装入方向上隔挡检测器,以防止检测器在掩模板的装入过程中被碰撞,进而导致检测器被损坏的风险。 | ||
搜索关键词: | 检测器 掩模板 装入 防护件 曝光机 隔挡 检测 申请 | ||
【主权项】:
1.一种曝光机,其特征在于,所述曝光机包括机架、检测器及防护件,所述机架用于装入掩模板,所述检测器安装于所述机架上并用于检测所述掩模板是否装入所述机架,所述防护件用于在所述掩模板的装入方向上隔挡所述检测器,以防止所述检测器在所述掩模板的装入过程中被碰撞。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910762211.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。