[发明专利]一种用于氮化铝基片抛光的抛光液的制备方法

摘要

本发明涉及抛光材料制备技术领域，提供一种用于氮化铝基片抛光的抛光液的制备方法，解决现有技术抛光液抛光不理想，存在去除效率低、抛光后晶片表面质量不佳的问题。所述抛光液包括如下组分：二氧化硅胶体、二氧化铈磨料、有机胺、氧化剂、分散剂、羟丙基甲基纤维素、有机硅烷偶联剂、表面活性剂、缓蚀剂、络合剂、消泡剂、催化剂。本申请制备的抛光液，使氮化铝晶片的抛光速率提高，同时抛光后表面质量更好，表面粗糙度度不大于25nm，表面无明显划痕，能满足工业中对超精密、无损伤工件表面的需求。

主权项

1.一种用于氮化铝基片抛光的抛光液，其特征在于：所述抛光液包括如下组分：二氧化硅胶体、二氧化铈磨料、有机胺、氧化剂、分散剂、羟丙基甲基纤维素、有机硅烷偶联剂、表面活性剂、缓蚀剂、络合剂、消泡剂、催化剂；所述有机胺为乙二胺、三乙胺、乙醇胺、二甲胺、丙胺、异丙胺、环己胺中的任意一种，所述氧化剂为过氧化氢、次氯酸钠、高锰酸钾中的任意一种；所述分散剂为纤维素衍生物、聚丙烯酰胺、十二烷基二甲基苄基溴化铵、脂肪酸聚乙二醇酯中的任意一种；所述表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚、失水山梨醇单水桂酸脂、椰油酸二乙醇酰胺中的任意一种；所述缓蚀剂为喹啉类缓蚀剂、咪唑类缓蚀剂、吡啶类缓蚀剂中的任意一种；所述络合剂为马来酸丙烯酸共聚物、二乙烯三胺五甲叉膦酸中的任意一种；所述消泡剂为聚氧丙烯氧化乙烯甘油醚或有机硅消泡剂中的任意一种；所述催化剂为负载型催化剂，包括五氧化二钒‑白土催化剂、二氧化钛‑氧化铝中的任意一种。