[发明专利]掩模版组件及其制造装置、制造方法有效
| 申请号： | 201910765171.6 | 申请日： | 2019-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN110373630B | 公开（公告）日： | 2022-01-25 |
| 发明（设计）人： | 丁文彪;曾佳;杜帅;陈奎;郑勇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/50 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 李莎 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模版组件制造装置，包括第一拉伸机构和第二拉伸机构；所述掩模版组件包括至少一个掩模版；其中，所述第一拉伸机构，被配置为夹持所述掩模版沿第一方向的边缘，并沿所述第二方向拉伸所述掩模版；所述第二拉伸机构，被配置为夹持所述掩模版沿第二方向的边缘，并沿所述第一方向拉伸所述掩模版；其中，所述第一方向与所述第二方向垂直。本发明还公开了一种掩模版组件制造方法和掩模版组件。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 组件 及其 制造 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版组件制造装置，其特征在于，包括第一拉伸机构和第二拉伸机构；所述掩模版组件包括至少一个掩模版；其中，所述第一拉伸机构，被配置为夹持所述掩模版沿第一方向的边缘，并沿所述第二方向拉伸所述掩模版；所述第二拉伸机构，被配置为夹持所述掩模版沿第二方向的边缘，并沿所述第一方向拉伸所述掩模版；其中，所述第一方向与所述第二方向垂直。
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