[发明专利]一种二维硫化钨基垂直异质结构材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910765723.3 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN110565052B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 陈飞;苏伟涛 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: C23C14/16 分类号: C23C14/16;C23C14/18;C23C14/35;C23C14/58
代理公司: 浙江永鼎律师事务所 33233 代理人: 陆永强
地址: 310018*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明属于纳米材料制备技术领域,公开了一种二维硫化钨基垂直异质结构材料的制备方法,采用化学气相沉积法,以Si/SiO2为衬底,磁控溅射的Mo/W薄膜为Mo、W源,与硫蒸气反应,在Mo/W薄膜附近三个不同区域制备得到WS2基垂直异质结构。所得WS2基垂直异质结构的形貌为两种不同尺寸的晶体堆叠而成的三角形,可作为晶体管的沟道材料应用于超薄电子器件领域。本发明选用磁控溅射的Mo/W超薄薄膜作为Mo、W源,通过Mo、W源蒸发温度的差异和有效蒸发面积的不同,以及随时间和距离变化的Mo、W源的浓度分布,成功实现二维WS2基垂直异质结构的组分调变。WS2基垂直异质结构具有可调的发射光波长,在光探测器件中有潜在的应用价值。
搜索关键词: 一种 二维 硫化 垂直 结构 材料 制备 方法
【主权项】:
1.一种二维硫化钨基垂直异质结构材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:/n步骤S1:以Si/SiO
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