[发明专利]用于红外探测器非均匀性校正的超构透镜阵列及方法有效
| 申请号： | 201910766732.4 | 申请日： | 2019-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN110455418B | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 吴鑫;辛雪倩;黄曦;刘德连;程强;张建奇 | 申请（专利权）人： | 西安电子科技大学 |
| 主分类号： | G01J5/08 | 分类号： | G01J5/08 |
| 代理公司： | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人： | 田文英;王品华 |
| 地址： | 710071*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于红外探测器非均匀性校正的超构透镜阵列及方法。所述超构透镜阵列蚀刻在衬底的下表层，其中红外探测器阵列中的每个探测器与超构透镜阵列中的每个超构透镜尺寸相同。所述方法包括步骤：(1)对探测器阵列进行辐射测量；(2)扫描数模图像；(3)获取每个采样点对应的超构透镜焦距；(4)设计超构透镜；(5)生成超构透镜阵列。本发明能够减少红外成像系统的体积，具备轻型化、一体化的优点，能够在红外成像过程中，及时有效地进行非均匀性校正，提高红外成像质量，具有适用范围广、实时性强的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 红外探测器 均匀 校正 透镜 阵列 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于红外探测器非均匀性校正的超构透镜阵列，包括红外焦平面、红外探测器阵列、衬底和AD转换电路，还包括超构透镜阵列，其特征在于，该装置将探测器阵列生长在衬底上，在衬底的下面蚀刻超构透镜阵列，阵列中的每个超构透镜由多个复合谐振单元按照圆周期排列，在探测器阵列上方设置AD转换电路，其中红外探测器阵列与超构透镜阵列尺寸相同的，每一个超构透镜覆盖一个红外探测器。/n
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