[发明专利]天线反射器及其型面变形测量方法和对比测量方法有效

专利信息
申请号: 201910770647.5 申请日: 2019-08-20
公开(公告)号: CN110375705B 公开(公告)日: 2020-07-21
发明(设计)人: 谭述君;聂天智;宋祥帅 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: G01B21/32 分类号: G01B21/32
代理公司: 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 代理人: 刘斌
地址: 116023 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 天线反射器及其型面变形测量方法和对比测量方法,属于整体变形测量领域,为了解决当前对于格栅反射器型面变形测量存在或偏差较大,或操作繁琐且费时费力的问题,要点是在反射器型面布置多个靶点,测量靶点的三维坐标,用传感器对于反射器型面的靶点的变形位移进行单次测量;将反射器型面划分为多个拟合区域;分别将不同拟合区域内靶点的坐标信息采用多项式拟合对应靶点的变形位移,使用最小二乘法进行多项式系数的求解,得到每片拟合区域所对应的拟合函数;将不同区域内靶点的坐标信息代入对应区域的拟合函数,更新并得到对应靶点的变形位移,效果是利用空间连续性特征提高其整体变形测量精度,又能够操作简单,省时省力。
搜索关键词: 天线 反射 及其 变形 测量方法 对比
【主权项】:
1.一种天线反射器型面变形测量方法,其特征在于,包括如下步骤:S1.在反射器型面布置多个靶点,测量靶点的三维坐标,坐标系原点置于反射器的型面中心,Z轴平行反射器面外变形方向,XY平面垂直于Z轴,用传感器对于反射器型面的靶点的Z轴方向变形位移dz进行单次测量;S2.根据反射器的型面特征和因拟合而需求的靶点数量,将反射器型面划分为多个拟合区域;S3.分别将不同拟合区域内靶点的X、Y轴坐标信息采用多项式拟合对应靶点的Z轴方向变形位移dz,使用最小二乘法进行多项式系数的求解,得到每片拟合区域所对应的拟合函数;S4.将不同区域内靶点的X、Y轴的坐标信息代入对应区域的拟合函数,更新并得到对应靶点的Z轴方向变形位移dz。
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