[发明专利]上提拉真空炉在审

专利信息
申请号: 201910772691.X 申请日: 2019-08-21
公开(公告)号: CN110344108A 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 王宇;官伟明;梁振兴 申请(专利权)人: 眉山博雅新材料有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B15/28;C30B15/30
代理公司: 成都七星天知识产权代理有限公司 51253 代理人: 袁春晓
地址: 620010 四川省眉*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 本申请公开了上提拉真空炉。所述晶体生长装置包括炉膛、提拉杆、运动装置和控制系统;所述炉膛内设置温场和热源;所述提拉杆的至少一部分位于所述炉膛内,且所述运动装置与所述提拉杆具有传动连接,以带动所述提拉杆上下运动和/或旋转;所述控制系统用于控制所述运动装置的运动方向和/或运动速度。本申请的晶体生长装置可以实现晶体生长过程自动化控制,所制备的单晶材料结构一致性好,并且改进了焊接工艺,提高了炉膛的密封性和抗腐蚀性。
搜索关键词: 炉膛 提拉杆 运动装置 晶体生长装置 控制系统 真空炉 提拉 焊接工艺 晶体生长过程 结构一致性 自动化控制 传动连接 单晶材料 上下运动 密封性 热源 温场 制备 申请 改进
【主权项】:
1.一种晶体生长装置,其特征在于,包括炉膛、提拉杆、运动装置和控制系统;所述炉膛内设置温场和热源;所述提拉杆的至少一部分位于所述炉膛内,且所述运动装置与所述提拉杆具有传动连接,以带动所述提拉杆上下运动和/或旋转;所述控制系统用于控制所述运动装置的运动方向和/或运动速度。
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