[发明专利]针对红外光学系统杂散辐射的定量测量误差校正方法有效
| 申请号： | 201910772965.5 | 申请日： | 2019-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN110455417B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 杨智慧;姜维维;郭聚光;马勇辉 | 申请（专利权）人： | 北京环境特性研究所 |
| 主分类号： | G01J5/00 | 分类号： | G01J5/00 |
| 代理公司： | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人： | 谭辉 |
| 地址： | 100854*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种针对红外光学系统杂散辐射的定量测量误差校正方法，包括：在红外光学系统的内部设置温度传感器；将红外光学系统置于恒温环境中进行辐射定标测量，记录定标体温度、响应值以及温度传感器的温度值；计算定标测量时总杂散辐射等效辐射亮度；根据定标体温度、响应值以及定标时总杂散辐射等效辐射亮度计算辐射定标的响应度和背景值；对目标进行测量，记录温度传感器的温度值和目标对应的响应值；根据记录的温度值，计算在测量时的总杂散辐射等效辐射亮度，结合目标对应的响应值以及响应度和背景值，计算得到修正后的目标等效辐射亮度。该方法可有效降低红外光学系统对目标的定量测量误差。 | ||
| 搜索关键词： | 针对 红外 光学系统 辐射 定量 测量误差 校正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种针对红外光学系统杂散辐射的定量测量误差校正方法，其特征在于，包括如下步骤：/nS1、在红外光学系统的内部设置温度传感器，实时测量所述红外光学系统内部产生杂散辐射的光学元件及机械结构表面的温度；/nS2、将所述红外光学系统置于恒温环境中，利用定标体对所述红外光学系统进行辐射定标测量，记录定标体温度、对应的辐射的响应值，以及在定标测量过程中所述温度传感器测得的温度值；/nS3、根据所述温度传感器测得的温度值，计算在定标测量时所述红外光学系统中的光学元件及机械结构表面产生并被探测器接收到的总杂散辐射的等效辐射亮度Lc；/nS4、根据定标测量得到的定标体温度及对应的辐射的响应值，结合总杂散辐射的等效辐射亮度Lc，计算所述红外光学系统辐射定标的响应度k和背景值b；/nS5、采用所述红外光学系统对目标进行辐射测量，记录测量时的所述温度传感器测得的温度值以及目标对应的响应值；/nS6、根据记录的温度值，计算在测量时所述红外光学系统中的总杂散辐射的等效辐射亮度L′c，结合目标对应的响应值以及所述红外光学系统辐射定标的响应度k和背景值b，计算得到修正后的目标等效辐射亮度。/n
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