[发明专利]抗等离子体腐蚀的复合涂层及制备方法在审
| 申请号： | 201910773757.7 | 申请日： | 2019-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN110331362A | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | 杨佐东 | 申请（专利权）人： | 重庆臻宝实业有限公司 |
| 主分类号： | C23C4/134 | 分类号： | C23C4/134;C23C4/11 |
| 代理公司： | 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙) 50216 | 代理人： | 龙玉洪 |
| 地址： | 401326 重庆市九*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗等离子体腐蚀的复合涂层及其制备方法，包括N层氧化铝/氧化钇涂层，其中N为大于等于2的整数，上一层的氧化铝/氧化钇涂层自粘结在下一层的氧化铝/氧化钇涂层上，本发明的氧化铝/氧化钇涂层可作为于半导体和微电子制造中刻蚀机等离子体反应室铝质零件防护涂层，多层涂层内的氧化钇含量呈增大趋势，通过这种梯度设置，在有效保证其与纯氧化钇涂层具有相当的抗腐蚀效果的同时，极大地减少了氧化钇的使用量，更经济。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化钇涂层 氧化铝 等离子体腐蚀 复合涂层 氧化钇 制备 等离子体反应室 微电子制造 纯氧化钇 多层涂层 防护涂层 铝质零件 梯度设置 抗腐蚀 刻蚀机 自粘结 半导体 保证 | ||
【主权项】：
1.一种抗等离子体腐蚀的复合涂层，其特征在于：包括N层氧化铝/氧化钇涂层(2)，其中N为大于等于2的整数，上一层的所述氧化铝/氧化钇涂层(2)自粘结在下一层的所述氧化铝/氧化钇涂层(2)上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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