[发明专利]一种基于类抛物透镜位相调制艾里光束传输轨迹的方法有效

专利信息
申请号: 201910775608.4 申请日: 2019-08-21
公开(公告)号: CN110471188B 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 李贺贺;张海东;马云飞;谢文俊;王琛;王启蒙;张会兴 申请(专利权)人: 河南科技大学
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 李现艳
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明提供了一种基于类抛物透镜位相调制艾里光束传输轨迹的方法,包括以下步骤:步骤一、由激光器发出高斯光束,并将所述高斯光束进行准直和扩束;步骤二、将准直扩束后的高斯光束投射到分束器上进行分光;步骤三、将分光后的光束射入至事先加载了相位图形的空间光调制器上,进行相位调制;最后将经立方相位掩膜板后的光束通过傅里叶变换透镜进行傅里叶变换,得到艾里光束,本发明利用计算全息技术得到抛物透镜位相因子的位相掩模板。通过改变类抛物透镜位相因子的调制参数,得到相应调制效果的相位掩模板,从而实现灵活控制艾里光束传输轨迹。
搜索关键词: 一种 基于 类抛物 透镜 位相 调制 光束 传输 轨迹 方法
【主权项】:
1.一种基于类抛物透镜位相调制艾里光束传输轨迹的方法,其特征在于:包括以下步骤:/n步骤一、由激光器发出高斯光束,并将所述高斯光束进行准直和扩束;/n步骤二、将准直扩束后的高斯光束投射到分束器上进行分光;/n步骤三、将分光后的光束射入至事先加载了相位图形的空间光调制器上,进行相位调制;/n步骤四、步骤三中的相位图形是利用计算机全息技术产生具有抛物透镜位相因子的立方位相全息图;/n步骤五、基于步骤四利用计算机全息技术得到抛物透镜位相因子的位相掩模板,具有抛物透镜的透过率函数为:/n /np(x)为透镜孔径函数,表示透镜焦距,为波数;/n步骤六、基于步骤五调制的艾里光束表达式为:/n /n 为二次位相因子系数,为归一化的横向宽度,为归一化的传播距离,w0为光束的横向尺度因子,a为艾里光束的衰减因子;/n步骤七、由步骤六可知艾里光束的传输轨迹为:/n /n步骤八、将经立方相位掩膜板后的光束通过傅里叶变换透镜进行傅里叶变换,得到艾里光束。/n
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