[发明专利]制备二维晶体材料的化学气相沉积设备和方法在审
| 申请号： | 201910776832.5 | 申请日： | 2019-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN110373715A | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 钟国仿;陈炳安;张灿 | 申请（专利权）人： | 深圳市纳设智能装备有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/00 | 分类号： | C30B25/00;C30B29/64;C23C16/448;C23C16/44;C23C16/455 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 陈文斌 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明区凤凰*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种制备二维晶体材料的化学气相沉积设备和方法，其中，化学气相沉积设备，包括：真空室；所述真空室内设置有样品台和气体分配器；第一控温室，用于放置第一原材料，并用于将所述第一原材料加热以产生第一原材料的蒸气；第一进气管，连通所述第一控温室和所述气体分配器；第二控温室，用于放置固态或液态第二原材料，并用于所述第二原材料加热以产生第二原材料的蒸气；第二进气管，连通所述第二控温室和所述气体分配器；第三进气管，一端用于连通所述第二原材料的气体源，另一端连通所述气体分配器。本发明技术方案具有二维晶体材料制备精度高，产品均匀性和重复性好，化学气相沉积设备适用范围广的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 化学气相沉积设备 气体分配器 控温室 连通 二维晶体 进气管 制备 加热 材料制备 均匀性 气体源 样品台 真空室 室内 | ||
【主权项】：
1.一种制备二维晶体材料的化学气相沉积设备，其特征在于，包括：真空室；样品台，所述样品台设置在所述真空室内，所述样品台内设置有第一加热装置；气体分配器，所述气体分配器设置在所述真空室内；第一控温室，用于放置第一原材料，并用于将所述第一原材料加热以产生第一原材料的蒸气；第一进气管，连通所述第一控温室和所述气体分配器；第二控温室，用于放置固态或液态第二原材料，并用于所述第二原材料加热以产生第二原材料的蒸气；第二进气管，连通所述第二控温室和所述气体分配器；第三进气管，一端用于连通所述第二原材料的气体源，另一端连通所述气体分配器；三个第四进气管，所述第四进气管用于向所述气体分配器通载体气体，三个所述第四进气管分别连通所述第一进气管、所述第二进气管以及所述第三进气管。
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