[发明专利]一种基于卷曲薄膜的氢气痕迹检测方法在审
申请号: | 201910776964.8 | 申请日: | 2019-08-22 |
公开(公告)号: | CN110455751A | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | 梅永丰;辛佳奇;胥博瑞 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | G01N21/59 | 分类号: | G01N21/59 |
代理公司: | 31200 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人: | 张磊<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
地址: | 200433*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种基于卷曲薄膜的氢气痕迹检测方法。其卷曲薄膜为由多层金属薄膜体系卷曲形成的阵列结构;最内层的金属薄膜在氢气气氛中具有体积膨胀效应,卷曲薄膜在接触过氢气之后,其卷曲直径会产生明显的减小,由此导致其光学性质的变化。氢气脱附后卷曲薄膜产生的透射率变化,与氢气浓度具有一定的定量关系,由此可以实现对氢气的痕迹检测。该方法通过在氢气通入前后,卷曲薄膜的曲率半径的变化导致的光学透射率的变化实现对氢气的痕迹检测。本发明在检测记录过程中无电流传输,安全性更高。 | ||
搜索关键词: | 氢气 卷曲 薄膜 检测 多层金属薄膜 体积膨胀效应 光学透射率 透射率变化 电流传输 定量关系 光学性质 记录过程 金属薄膜 氢气气氛 阵列结构 最内层 减小 脱附 | ||
【主权项】:
1.一种基于卷曲薄膜的氢气痕迹检测方法,其特征在于,具体步骤如下:/n(1) 测量通入氢气前卷曲薄膜的透射率a1;/n(2) 将卷曲薄膜置于透明密闭容器中;/n(3) 将氢气通入透明密闭容器中;/n(4) 停止通入氢气,将卷曲薄膜置于空气或氮气环境中;/n(5) 测量通入氢气后卷曲薄膜的透射率a2;/n(6) 计算通入氢气前后卷曲薄膜的透射率变化率a,a = (a2 – a1)/a1;/n(7) 根据透射率变化率的大小,可以对浓度为0.1%-4%的氢气进行定量痕迹检测。/n
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