[发明专利]一种法拉第清洗装置及等离子体处理系统有效
| 申请号： | 201910783185.0 | 申请日： | 2019-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN110491760B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 刘海洋;胡冬冬;刘小波;李娜;程实然;郭颂;吴志浩;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 石艳红 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种法拉第清洗装置及等离子体处理系统，包括反应腔室、偏置电极、晶圆、腔盖、耦合窗、进气喷嘴、立体式线圈以及法兰第层，腔盖上端面安装有耦合窗，反应腔室上端面安装有腔盖，反应腔室内部装配有偏置电极，偏置电极上端面安装有晶圆，耦合窗内部装配有进气喷嘴，耦合窗上端面安装有法兰第层，法兰第层上端面装配有立体式线圈，因本发明添加了耦合窗、进气喷嘴、立体式线圈以及法兰第层，该设计解决了原有法拉第清洗装置及等离子体处理系统使用效果不佳的问题，本发明结构合理，便于组合安装，清理效果好，实用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 法拉第 清洗 装置 等离子体 处理 系统 | ||
【主权项】：
1.一种法拉第清洗装置及等离子体处理系统，包括反应腔室、偏置电极、晶圆、腔盖以及便于清洗机构，其特征在于：所述反应腔室上端面安装有腔盖，所述反应腔室内部装配有偏置电极，所述偏置电极上端面安装有晶圆，所述腔盖上侧设置有便于清洗机构；/n所述便于清洗机构包括耦合窗、进气喷嘴、立体式线圈以及法兰第层，所述腔盖上端面安装有耦合窗，所述耦合窗内部装配有进气喷嘴，所述耦合窗上端面安装有法兰第层，所述法兰第层上端面装配有立体式线圈。/n
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