[发明专利]一种全息光栅模板及其制备方法有效
| 申请号： | 201910785400.0 | 申请日： | 2019-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN110456435B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 杨渝书;伍强;李艳丽 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B5/32;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种全息光栅模板及其制备方法，全息光栅模板的制备方法包括：提供一衬底，衬底上依次形成有硬掩模层和图形化的光刻胶层，光刻胶层具有图形；以图形化的光刻胶层为掩模，刻蚀硬掩模层，将图形复制至硬掩模层中，以形成图形化的硬掩模层；对衬底执行离子注入工艺，在离子注入区得到光栅模板图形区；刻蚀硬掩模层并暴露出衬底；刻蚀衬底的非离子注入区，以暴露出光栅模板图形区，并形成全息光栅模板。通过离子注入工艺得到所需形状的光栅结构区，经过高刻蚀选择比刻蚀保留光栅结构区，从而得到全息光栅模板，工艺难度较低，工艺可行性高；通过在衬底上直接形成光栅结构区，避免了光刻工艺的转版步骤，减少了工艺步骤，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 全息 光栅 模板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种全息光栅模板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/n提供一衬底，所述衬底上依次形成有硬掩模层和图形化的光刻胶层，所述光刻胶层具有图形；/n以图形化的所述光刻胶层为掩模，刻蚀所述硬掩模层，将所述图形复制至所述硬掩模层中，以形成图形化的硬掩模层；/n对所述衬底执行离子注入工艺，在离子注入区得到光栅模板图形区；/n刻蚀所述硬掩模层并暴露出所述衬底；以及/n刻蚀所述衬底的非离子注入区，以暴露出所述光栅模板图形区，并形成全息光栅模板。/n
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